发明公开
- 专利标题： Vorrichtung zum Trockenreinigen von staubverschmutzten Hilfsgegenständen zur Handhabung und Aufbewahrung von Halbleiterwafern
- 专利标题（英）： Device for dry cleaning dust soiled objects for carrying and keeping semi-conductor wafers
- 专利标题（中）： 一种用于干洗灰尘污染的辅助对象半导体晶片的处理和存储
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申请号： EP97109257.2申请日： 1997-06-07
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公开(公告)号： EP0813230A3公开(公告)日： 2001-05-30
- 发明人: Stroh, Rüdiger Joachim, Dipl.-Ing. , Schweinoch, Bozenka , Trefzer, Martin , Thomas, Uwe , Allmann, Erich , Coad, Craid
- 申请人： MICRONAS Semiconductor Holding AG
- 申请人地址： World Trade Center, Leutschenbachstrasse 95 8050 Zürich CH
- 专利权人： MICRONAS Semiconductor Holding AG
- 当前专利权人： MICRONAS Semiconductor Holding AG
- 当前专利权人地址： World Trade Center, Leutschenbachstrasse 95 8050 Zürich CH
- 代理机构： Hornig, Leonore, Dr.
- 优先权： DE19623766 19960614
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; B08B5/02 ; B08B9/08 ; B08B9/34
摘要：
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Trockenreinigen von staubverschmutzten Hilfsgegenständen zur Handhabung und Aufbewahrung von Halbleiterwafern, welche ein Gehäuse 2 mit einer mittels eines Deckels 4 verschließbaren Aufnahmeöffnung 3 umfaßt, wobei in dem Gehäuse 2 ein Aufnahmebereich 5 für einen Hilfsgegenstand und ein von diesem räumlich getrennter Auffangbereich 6 vorgesehen sind, und in dem Aufnahmebereich 6 wenigstens eine Gaseinlaßdüse 8 und in dem Auffangbereich 6 eine Gasabsaugöffnung 19 derart angeordnet sind, daß der Hilfsgegenstand von einem Reinigungsgas umströmt werden kann.
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