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1.发明授权Verfahren zum Trockenreinigen von staubverschmutzten Hilfsgegenständen, die zur Handhabung und Aufbewahrung von Halbleiterwafern vorgesehen sind. 失效这提供了用于处理和存储半导体晶片用于干洗灰尘污染的辅助对象的方法。
公开(公告)号：EP0813230B1
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：EP97109257.2
申请日：1997-06-07
发明人： Stroh, Rüdiger Joachim, Dipl.-Ing. , Schweinoch, Bozenka , Trefzer, Martin , Thomas, Uwe , Allmann, Erich , Coad, Craid
CPC分类号： H01L21/67028
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2.发明公开
公开(公告)号：EP0813230A3
公开(公告)日：2001-05-30
申请号：EP97109257.2
申请日：1997-06-07
发明人： Stroh, Rüdiger Joachim, Dipl.-Ing. , Schweinoch, Bozenka , Trefzer, Martin , Thomas, Uwe , Allmann, Erich , Coad, Craid
CPC分类号： H01L21/67028
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Trockenreinigen von staubverschmutzten Hilfsgegenständen zur Handhabung und Aufbewahrung von Halbleiterwafern, welche ein Gehäuse 2 mit einer mittels eines Deckels 4 verschließbaren Aufnahmeöffnung 3 umfaßt, wobei in dem Gehäuse 2 ein Aufnahmebereich 5 für einen Hilfsgegenstand und ein von diesem räumlich getrennter Auffangbereich 6 vorgesehen sind, und in dem Aufnahmebereich 6 wenigstens eine Gaseinlaßdüse 8 und in dem Auffangbereich 6 eine Gasabsaugöffnung 19 derart angeordnet sind, daß der Hilfsgegenstand von einem Reinigungsgas umströmt werden kann.
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