发明授权
- 专利标题： Process and apparatus for depositing titanium layers
- 专利标题（中）： 钛层的沉积的方法和装置
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申请号： EP98300508.3申请日： 1998-01-26
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公开(公告)号： EP0855452B1公开(公告)日： 2003-06-04
- 发明人: Zhao, Jun , Luo, Lee , Liang, Xiao Jin , Wang, Jia-Xiang , Wolff, Stefan , Sajoto, Talex
- 申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 申请人地址： 3050 Bowers Avenue, M/S 2061 Santa Clara, California 95054-3299 US
- 专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人地址： 3050 Bowers Avenue, M/S 2061 Santa Clara, California 95054-3299 US
- 代理机构： Bayliss, Geoffrey Cyril
- 优先权： US37659P 19970124; US800098 19970212; US918706 19970822
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/52
公开/授权文献
- EP0855452A1 Process and apparatus for depositing titanium layers 公开/授权日：1998-07-29
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