发明授权
- 专利标题： CONTROL MECHANISMS FOR DOSIMETRY CONTROL IN ION IMPLANTATION SYSTEMS
- 专利标题（中）： 控制装置用于剂量控制在离子注入
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申请号： EP97907647.8申请日： 1997-02-14
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公开(公告)号： EP0932911B1公开(公告)日： 2003-04-16
- 发明人: BLAKE, Julian, G. , SFERLAZZO, Piero , ROSE, Peter, H. , BRAILOVE, Adam, A.
- 申请人： Axcelis Technologies, Inc.
- 申请人地址： 55 Cherry Hill Drive Beverly, MA 01915 US
- 专利权人： Axcelis Technologies, Inc.
- 当前专利权人： Axcelis Technologies, Inc.
- 当前专利权人地址： 55 Cherry Hill Drive Beverly, MA 01915 US
- 代理机构： Burke, Steven David
- 优先权： US601983 19960216; US757726 19961126
- 国际公布： WO97032335 19970904
- 主分类号： H01J37/304
- IPC分类号： H01J37/304 ; H01J37/317
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