发明授权
- 专利标题： SILICON OXIDE PARTICLES
- 专利标题（中）： 二氧化硅
-
申请号： EP99924420.5申请日： 1999-05-20
-
公开(公告)号： EP1082405B1公开(公告)日： 2010-08-18
- 发明人: KUMAR, Sujeet , BI, Xiangxin , KAMBE, Nobuyuki
- 申请人： NanoGram Corporation
- 申请人地址： 49040 Milmont Drive Fremont, CA 94538 US
- 专利权人： NanoGram Corporation
- 当前专利权人： NanoGram Corporation
- 当前专利权人地址： 49040 Milmont Drive Fremont, CA 94538 US
- 代理机构： Wakerley, Helen Rachael
- 优先权： US85514 19980527
- 国际公布： WO1999061244 19991202
- 主分类号： C11D9/02
- IPC分类号： C11D9/02 ; C11D9/04 ; C01B17/00 ; C01B33/00 ; C01B15/14 ; C01B33/12 ; C01B33/18 ; C09K3/14 ; C09G1/02
公开/授权文献
- EP1082405A1 SILICON OXIDE PARTICLES 公开/授权日：2001-03-14
信息查询
