发明授权
- 专利标题： UV cure process for low k film formation
- 专利标题（中）： UV固化以形成具有低k值＆X9的膜;
-
申请号： EP01102095.5申请日： 2001-01-31
-
公开(公告)号： EP1122333B1公开(公告)日： 2006-12-06
- 发明人: Junker, Kurt H. , Grove, Nicole R. , Azrak, Marijean E.
- 申请人： Freescale Semiconductor, Inc.
- 申请人地址： 6501 William Cannon Drive West Austin, Texas 78735 US
- 专利权人： Freescale Semiconductor, Inc.
- 当前专利权人： Freescale Semiconductor, Inc.
- 当前专利权人地址： 6501 William Cannon Drive West Austin, Texas 78735 US
- 代理机构： Wharmby, Martin Angus
- 优先权： US494478 20000131
- 主分类号： C23C16/40
- IPC分类号： C23C16/40 ; C23C16/56 ; C23C16/54 ; H01L21/316
公开/授权文献
- EP1122333A3 UV cure process and tool for low k film formation 公开/授权日：2003-10-29
信息查询
IPC分类:
