发明授权
- 专利标题： Sputterbeschichtungsanlage zur Beschichtung von zumindest einem Substrat und Verfahren zur Regelung dieser Anlage
- 专利标题（英）： Sputtering apparatus for coating at least one substrate and process for the regulation of the apparatus
- 专利标题（中）： 溅射涂覆所述至少一个基片和控制该系统的方法涂敷装置
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申请号： EP01121453.3申请日： 2001-09-07
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公开(公告)号： EP1197580B1公开(公告)日： 2004-03-17
- 发明人: Bechtloff, Jürgen, Prof. Dr.-Ing. , Hennes, Peter , Czybik, Manfred , Böwer, Reimund
- 申请人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG
- 申请人地址： Sohnreystrasse 21 D-37697 Lauenförde DE
- 专利权人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG
- 当前专利权人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG
- 当前专利权人地址： Sohnreystrasse 21 D-37697 Lauenförde DE
- 代理机构： Körfer, Thomas, Dipl.-Phys.
- 优先权： DE10050355 20001011; DE10135761 20010723
- 主分类号： C23C14/54
- IPC分类号： C23C14/54 ; C23C14/34 ; C23C14/56
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