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    HOCHW RMED MMENDE ISOLIERVERGLASUNG
    4.
    发明公开
    HOCHW RMED MMENDE ISOLIERVERGLASUNG 有权
    高隔热玻璃

    公开(公告)号：EP1721057A1

    公开(公告)日：2006-11-15

    申请号：EP05700837.7

    申请日：2005-01-12

    申请人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG

    发明人： Grimm, Friedrich

    IPC分类号： E06B3/67 ,  E04C2/54 ,  E04B1/80 ,  B32B17/06

    CPC分类号： B32B27/08 ,  B32B5/00 ,  B32B5/14 ,  B32B17/06 ,  B32B21/08 ,  B32B27/06 ,  B32B2307/304 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/414 ,  B32B2315/08 ,  B32B2317/16 ,  E06B3/6715

    摘要： The invention relates to an insulating glazing having a transparent or translucent outer shell with surfaces (1, 2), and having a transparent or translucent inner shell with surfaces (3, 4), which define an intermediate space. According to the invention, a translucent insulating material body placed in this intermediate space provides a distinct improvement in heat insulation. An inventive insulating glazing comprises a insulating material body (30) that is comprised, in essence, of translucent pyrogenic silicic acid (31). The pyrogenic silicic acid (31) forms a matrix for incorporating aggregates (32) having a daylight effect such as glass fibers (320) and microglass spheres (321). These additives make it possible to vary the daylight properties as well as the permeability to light and energy of an inventive insulating glazing without losing the extremely good heat insulation of the pyrogenic silicic acid (31). According to the invention, the transparent or translucent shells (10, 11) of the inventive insulating glazing are constructed separately.

    Sputterbeschichtungsanlage zur Beschichtung von zumindest einem Substrat und Verfahren zur Regelung dieser Anlage
    6.
    发明公开
    Sputterbeschichtungsanlage zur Beschichtung von zumindest einem Substrat und Verfahren zur Regelung dieser Anlage 有权
    溅射涂覆所述至少一个基片和控制该系统的方法涂敷装置

    公开(公告)号：EP1197580A1

    公开(公告)日：2002-04-17

    申请号：EP01121453.3

    申请日：2001-09-07

    申请人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG

    发明人： Bechtloff, Jürgen, Prof. Dr.-Ing. ,  Hennes, Peter ,  Czybik, Manfred ,  Böwer, Reimund

    IPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/34 ,  C23C14/56

    CPC分类号： H01J37/34 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/54 ,  H01J2237/30411

    摘要： Eine Sputterbeschichtungsanlage (1) zur Beschichtung von zumindest einem Substrat (2, 3), insbesondere einer Glasscheibe, weist zumindest eine Kathode (9), die mit einer Sputtertarget (10) verbunden ist, zumindest einer Anode (7) und zumindest einen Gaseinlaß (15, 16) auf, durch den ein Reaktivgas in den Raum zwischen der Anode (7) und dem Substrat (2, 3) geleitet wird. Dabei ist die Kathode (9) gegenüber der Anode (7) mit einer Kathodenspannung beaufschlagt, um zwischen der Kathode (9) und der Anode (7) ein Plasma auszubilden. Ferner ist eine Regelschaltung (20) vorgesehen, die die Meßgrößen Gasfluß des Reaktivgases und Kathodenleistung und die Meßgröße, die die Einbrüche der Kathodenspannung angibt, die in Folge Entladung der Kathode (9) über das Plasma auftreten, erfaßt und in Abhängigkeit von diesen Meßgrößen den Gasfluß des Reaktivgases und die Kathodenleistung basierend auf einer Fuzzy-Logik regelt.

    摘要翻译： 溅射装置（1）包括一个阴极（9），其连接至溅射靶（10）; 在阳极（7）; 和进气口（15,16），用于反应性气体流入在阳极和基片（2,3）之间的空间（17）。 阴极经受阴极电压，以形成在阴极和阳极之间产生等离子体。 甲调节开关（20），获取用于反应性气体和阴极性能的流和用于阴极电压的渗透的参数的参数。 因此独立claimsoft被包括为用于调节的溅射装置的方法。 优选特点：调节开关包括模糊定影单元，用于将参数转换为模糊信号。

    Mit einer Wärmeschutzschicht beschichtetes Substrat
    9.
    发明公开
    Mit einer Wärmeschutzschicht beschichtetes Substrat 有权
    Mit。。。。。。。。。。。

    公开(公告)号：EP1553062A1

    公开(公告)日：2005-07-13

    申请号：EP04027206.4

    申请日：2004-11-16

    申请人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG

    发明人： Herlitze, Lothar, Dr. ,  Schmitt, Michael ,  Landgraf, Ralf ,  Böwe, Reimund

    IPC分类号： C03C17/36

    CPC分类号： C03C17/3618 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3642 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/366

    摘要： Die Erfindung betrifft ein mit einer Wärmeschutzschicht beschichtetes Substrat mit einer Metallschicht (3). Die Wärmeschutzschicht weist eine dielektrische Unterschicht (2) auf, die zwischen der Metallschicht (3) und dem Substrat (1) angeordnet ist. Die dielektrische Unterschicht (2) umfasst zumindest eine erste Lage (2a) eines Oxids oder Nitrids von einem Element einer Gruppe bestehend aus Bi, W, Ti. Die Wärmeschutzschicht umfasst ferner eine dielektrische Oberschicht (4), die auf der von dem Substrat (1) abgewandten Seite der Metallschicht (3) angeordnet ist, wobei die dielektrische Oberschicht (4) zumindest eine Lage (4b) eines Nitrids oder Oxynitrids eines Elements aus der Gruppe bestehend aus Al, Si oder Zr aufweist.

    摘要翻译： 涂覆有热保护层的基板（1）包括金属层（3），布置在金属层和基板之间的电介质下层（2）和布置在金属层侧的电介质上层（4） 背离衬底。 电介质下层具有包含铋（Bi），钨（W）和/或钛（Ti）的氧化物，氮化物或氧氮化物的第一层（2a）。 电介质上层具有包含铝（Al），硅（Si）和/或锆（Zr）的氧化物或氧氮化物的层。

    SYSTEM MIT VERGLASUNGSELEMENT UND GASVERSORGUNGSVORRICHTUNG
    10.
    发明授权
    SYSTEM MIT VERGLASUNGSELEMENT UND GASVERSORGUNGSVORRICHTUNG 有权
    系统与玻璃的部件和供气设备

    公开(公告)号：EP1421437B1

    公开(公告)日：2005-01-19

    申请号：EP02797594.5

    申请日：2002-08-19

    申请人： INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG

    发明人： GRAF, Wolfgang ,  ROX, Rainer

    IPC分类号： G02F1/153 ,  E06B3/677

    CPC分类号： G02F1/19 ,  E06B3/6722 ,  E06B3/677 ,  G02F2202/34

    摘要： The invention relates to a system (1) comprising a glazing element (2) and a gas supply device (4), whereby the glazing element (2) has at least two substrates (18, 19), which enclose a space (3), and at least one gas of a defined composition located inside the space (3). A coating whose physical properties, in particular, optical and/or electrical properties, which can be altered according to the composition of the gas, is at least applied to one of the surfaces of a substrate (18, 19), said surfaces facing the space (3). The gas supply device (4) has at least one electrolysis device that has a working electrode (9), a counter electrode (10) and at least one electrolyte (17) for producing gas. The glazing element (2) and the gas supply device (4) are connected to one another whereby enabling the gas inside a closed circuit (6) to be guided between the glazing element (2) and the gas supply device (4). In addition, means for influencing the moisture content of the gas are placed inside the system.