发明授权
- 专利标题： POSITIONALLY MODIFIED siRNA CONSTRUCTS
- 专利标题（中）： 位修饰siRNA构建
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申请号： EP04754153.7申请日： 2004-06-03
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公开(公告)号： EP1765074B1公开(公告)日： 2012-10-03
- 发明人: BHAT, Balkrishen , SWAYZE, Eric , PRAKASH, Thazha, P. , ALLERSON, Charles , DANDE, Prasad , GRIFFEY, Richard, H.
- 申请人： Isis Pharmaceuticals, Inc.
- 申请人地址： 2855 Gazelle Court Carlsbad, CA 92010 US
- 专利权人： Isis Pharmaceuticals, Inc.
- 当前专利权人： Isis Pharmaceuticals, Inc.
- 当前专利权人地址： 2855 Gazelle Court Carlsbad, CA 92010 US
- 代理机构： Hallybone, Huw George
- 国际公布： WO2005120230 20051222
- 主分类号： C07H21/04
- IPC分类号： C07H21/04 ; C12N15/11
公开/授权文献
- EP1765074A2 POSITIONALLY MODIFIED siRNA CONSTRUCTS 公开/授权日：2007-03-28
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