发明授权
- 专利标题： APPARATUS AND METHOD FOR HIGH-THROUGHPUT ATOMIC LAYER DEPOSITION
- 专利标题（中）： 用于高通量原子层沉积的装置和方法
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申请号： EP09750808.9申请日： 2009-05-20
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公开(公告)号： EP2294247B1公开(公告)日： 2016-04-27
- 发明人: GRANNEMAN, Ernst H.A. , VAN NOOTEN, Sebastiaan E.
- 申请人： ASM International N.V.
- 申请人地址： Versterkerstraat 8 1322 AP Almere NL
- 专利权人： ASM International N.V.
- 当前专利权人： ASM International N.V.
- 当前专利权人地址： Versterkerstraat 8 1322 AP Almere NL
- 代理机构： V.O.
- 优先权： US123745 20080520
- 国际公布： WO2009142488 20091126
- 主分类号： C30B25/14
- IPC分类号： C30B25/14 ; C30B29/20 ; C30B35/00 ; H01L21/677 ; C23C16/54 ; C23C16/455
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