发明公开
EP2386668A1 Produkt mit einer antimikrobiell wirkenden Oberflaechenschicht und Verfahren zu seiner Herstellung
审中-公开
产品具有抗菌Oberflaechenschicht和工艺及其制备方法
- 专利标题: Produkt mit einer antimikrobiell wirkenden Oberflaechenschicht und Verfahren zu seiner Herstellung
- 专利标题(英): Product with an anti-microbial surface layer and method for producing same
- 专利标题(中): 产品具有抗菌Oberflaechenschicht和工艺及其制备方法
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申请号: EP11003805.6申请日: 2011-05-10
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公开(公告)号: EP2386668A1公开(公告)日: 2011-11-16
- 发明人: Hemschemeier, Hans-Jürgen , Klenen, Heinz , Krause, Andreas , Melcher, Walter , Rode, Dirk
- 申请人: KME Germany AG & Co. KG
- 申请人地址: Klosterstrasse 29 49074 Osnabrück DE
- 专利权人: KME Germany AG & Co. KG
- 当前专利权人: KME Germany AG & Co. KG
- 当前专利权人地址: Klosterstrasse 29 49074 Osnabrück DE
- 优先权: DE102010020427 20100512
- 主分类号: C23C2/28
- IPC分类号: C23C2/28 ; C23C2/08 ; C23C26/00 ; C23C30/00 ; C22C9/02 ; C23C14/58 ; C25D3/30 ; C25D3/32 ; C25D3/60 ; C25D5/50
摘要:
Produkt mit einer Oberflächenschicht aus einer antimikrobiellen, silberfarbenen Legierung auf Basis von Kupfer und Zinn, mit folgenden Merkmalen:
- Die Oberflächenschicht befindet sich auf einem Kupferemittenten, der aus Kupfer oder einer Kupfer-Legierung besteht, wobei Kupfer aus dem Kupferemittenten durch Diffusion in die Oberflächenschicht eingelagert ist
- Die Oberflächenschicht auf Basis einer Kupfer-Zinn-Legierung weist wenigstens eine bei Raumtemperatur stabile intermetallische Phase aus Kupfer und Zinn auf;
- Die Oberflächenschicht besteht an der dem Kupferemittenten abgewandten Oberfläche überwiegend oder vollständig aus einer der folgenden intermetallischen Phasen:
- ETA-Phase (Cu6Sn5) mit 40 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
- EPSILON-Phase (Cu3Sn) mit 61 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
- DELTA-Phase (Cu41Sn11) mit 67 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
wobei herstellungsbedingte Abweichungen der Kupfer-Konzentration an der Oberfläche in einem Bereich von maximal +/- 5 Gew.-% Kupfer liegen.
Das Produkt wird durch eine die Diffusion auslösende Wärmebehandlung hergestellt.
- Die Oberflächenschicht befindet sich auf einem Kupferemittenten, der aus Kupfer oder einer Kupfer-Legierung besteht, wobei Kupfer aus dem Kupferemittenten durch Diffusion in die Oberflächenschicht eingelagert ist
- Die Oberflächenschicht auf Basis einer Kupfer-Zinn-Legierung weist wenigstens eine bei Raumtemperatur stabile intermetallische Phase aus Kupfer und Zinn auf;
- Die Oberflächenschicht besteht an der dem Kupferemittenten abgewandten Oberfläche überwiegend oder vollständig aus einer der folgenden intermetallischen Phasen:
- ETA-Phase (Cu6Sn5) mit 40 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
- EPSILON-Phase (Cu3Sn) mit 61 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
- DELTA-Phase (Cu41Sn11) mit 67 Gew.-% Kupfer in dieser Phase
wobei herstellungsbedingte Abweichungen der Kupfer-Konzentration an der Oberfläche in einem Bereich von maximal +/- 5 Gew.-% Kupfer liegen.
Das Produkt wird durch eine die Diffusion auslösende Wärmebehandlung hergestellt.
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