发明授权
- 专利标题： METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE
- 专利标题（中）： 方法的半导体元件
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申请号： EP10733354.4申请日： 2010-01-20
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公开(公告)号： EP2390932B1公开(公告)日： 2015-09-09
- 发明人: KURAMOTO, Masafumi , OGAWA, Satoru , NIWA, Miki
- 申请人： Nichia Corporation
- 申请人地址： 491-100 Oka Kaminaka-cho Anan-shi Tokushima 774-8601 JP
- 专利权人： Nichia Corporation
- 当前专利权人： Nichia Corporation
- 当前专利权人地址： 491-100 Oka Kaminaka-cho Anan-shi Tokushima 774-8601 JP
- 代理机构： Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
- 优先权： JP2009013712 20090123
- 国际公布： WO2010084746 20100729
- 主分类号： H01L23/00
- IPC分类号： H01L23/00 ; H01L21/18 ; H01L33/64 ; H01L33/62
公开/授权文献
- EP2390932A1 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME 公开/授权日：2011-11-30
信息查询
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