发明授权
- 专利标题： PROCEDE DE GRAVURE DE COUCHES MICRO-ELECTRIQUES PAR UN FAISCEAU LASER
- 专利标题（英）： EP2666194B1 - Method for etching micro-electrical films using a laser beam
- 专利标题（中）： 用激光束蚀刻微电子层的方法
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申请号： EP11811050.1申请日： 2011-12-08
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公开(公告)号： EP2666194B1公开(公告)日： 2018-04-04
- 发明人: SEILER, Anne-Laure , BENWADIH, Mohammed
- 申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
- 申请人地址： 25, Rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" 75015 Paris FR
- 专利权人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
- 当前专利权人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
- 当前专利权人地址： 25, Rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" 75015 Paris FR
- 代理机构： Cabinet Laurent & Charras
- 优先权： FR1150350 20110117
- 国际公布： WO2012098302 20120726
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00 ; H01L51/10
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