- 专利标题： METHOD OF CLEANING A PLASMA PROCESSING APPARATUS
-
申请号： EP15157130.4申请日： 2015-03-02
-
公开(公告)号： EP2916344B1公开(公告)日： 2019-06-12
- 发明人: Kishi, Hiroki , Hashimoto, Mitsuru , Shimoda, Keiichi , Nishimura, Eiichi , Shimizu, Akitaka
- 申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 申请人地址： 3-1, Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107-6325 JP
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人地址： 3-1, Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107-6325 JP
- 代理机构： Hoffmann Eitle
- 优先权： JP2014040524 20140303
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; C23C16/44
公开/授权文献
- EP2916344A1 Method of cleaning plasma processing apparatus 公开/授权日：2015-09-09
信息查询
