发明授权
- 专利标题： PRECURSORS AND FLOWABLE CVD METHODS FOR MAKING LOW-K FILMS TO FILL SURFACE FEATURES
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申请号： EP22160332.7申请日： 2017-08-25
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公开(公告)号： EP4047109B1公开(公告)日： 2024-07-24
- 专利权人： Versum Materials US, LLC
- 当前专利权人： Versum Materials US, LLC
- 当前专利权人地址： 8555 S. River Parkway
- 代理机构： Beck Greener LLP
- 优先权： US 1662381222P 2016.08.30
- 分案原申请号： 17847260.1 2017.08.25
- 主分类号： C23C16/40
- IPC分类号： C23C16/40 ; C23C16/34 ; C23C16/32 ; C23C16/30 ; C23C16/50 ; C23C16/56 ; H01L21/02 ; C01B33/12 ; C07F7/18 ; C09D1/00 ; C09D7/61 ; C23C16/04
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