- 专利标题： SELECTIVE PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION
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申请号： EP21901345.5申请日： 2021-11-30
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公开(公告)号： EP4240886A1公开(公告)日： 2023-09-13
- 发明人: PEARLSTEIN, Ronald M. , LEI, Xinjian , RIDGEWAY, Robert Gordon , WU, Aiping , LEE, Yi-chia , AGARWAL, Sumit , RAMESH, Rohit Narayanan Kavassery , XU, Wanxing , GASVODA, Ryan James
- 申请人： Versum Materials US, LLC
- 申请人地址： US Tempe, AZ 85284 8555 S. River Parkway
- 代理机构： Sommer, Andrea
- 优先权： US202163182581 P 20210430
- 国际公布： WO2022119865 20220609
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/04 ; C23C16/02 ; C23C16/40 ; H01L21/02 ; H01L21/285
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