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1.

发明公开
SELECTIVE THERMAL ATOMIC LAYER DEPOSITION 审中-公开

公开(公告)号：EP4241299A1

公开(公告)日：2023-09-13

申请号：EP21901340.6

申请日：2021-11-30

申请人： Versum Materials US, LLC

发明人： PEARLSTEIN, Ronald M. , LEI, Xinjian , RIDGEWAY, Robert Gordon , WU, Aiping , LEE, Yi-Chia , AGARWAL, Sumit , RAMESH, Rohit Narayanan Kavassery , XU, Wanxing , GASVODA, Ryan James

IPC分类号： H01L21/32 , H01L21/02 , C23C16/04 , C23C16/455 , C23C16/40

2.

发明公开
SELECTIVE PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION 审中-公开

公开(公告)号：EP4240886A1

公开(公告)日：2023-09-13

申请号：EP21901345.5

申请日：2021-11-30

申请人： Versum Materials US, LLC

发明人： PEARLSTEIN, Ronald M. , LEI, Xinjian , RIDGEWAY, Robert Gordon , WU, Aiping , LEE, Yi-chia , AGARWAL, Sumit , RAMESH, Rohit Narayanan Kavassery , XU, Wanxing , GASVODA, Ryan James

IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/04 , C23C16/02 , C23C16/40 , H01L21/02 , H01L21/285