发明专利
- 专利标题: メタセシス反応における低い触媒充填
- 专利标题(英): Low catalyst loading in the metathesis reaction
- 专利标题(中): 在复分解反应低催化剂负载
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申请号: JP2015533511申请日: 2013-09-05
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公开(公告)号: JP2015532268A公开(公告)日: 2015-11-09
- 发明人: レナート カディロフ , カディロフ レナート
- 申请人: エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG , エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG
- 申请人地址: ドイツ連邦共和国 エッセン レリングハウザー シュトラーセ 1−11
- 专利权人: エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG,エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG
- 当前专利权人: エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG,エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG
- 当前专利权人地址: ドイツ連邦共和国 エッセン レリングハウザー シュトラーセ 1−11
- 代理商 アインゼル・フェリックス=ラインハルト; 久野 琢也
- 优先权: EP12185802.1 2012-09-25
- 国际申请: EP2013068364 JP 2013-09-05
- 国际公布: WO2014048692 JP 2014-04-03
- 主分类号: C07B37/10
- IPC分类号: C07B37/10 ; C07C41/18 ; C07C43/188 ; C07C67/333 ; C07C67/343 ; C07C69/732 ; C07C69/75 ; C07D207/16 ; C07D207/20 ; C07D223/04 ; C07D225/02 ; C07D245/02 ; C07D313/00 ; C07D313/08 ; C07D313/20 ; C07D321/00 ; C07D323/00 ; C07D487/04 ; C07D498/04
摘要:
本発明は、メタセシス条件下でメタセシス出発材料をメタセシス触媒と接触させることを含むメタセシス生成物を製造するための方法に関し、前記メタセシス触媒を、メタセシス出発材料の反応性二重結合の合計の半分に対して、0.0001モル%〜1モル%の量で使用し、かつ前記反応中に生じたエチレン又はプロピレンを、反応混合物から取り除く。
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