发明专利
- 专利标题： ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置
- 专利标题（英）： Gas separation membrane, gas separation membrane module, and gas separator
- 专利标题（中）： 气体分离膜，气体分离膜模块和气体分离器
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申请号： JP2015146305申请日： 2015-07-24
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公开(公告)号： JP2016163869A公开(公告)日： 2016-09-08
- 发明人: 澤田 真 , 望月 勇輔 , 成田 岳史 , 伊藤 滋英 , 野田 浩之
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理商 特許業務法人特許事務所サイクス
- 优先权： JP2014201930 2014-09-30 JP2015038734 2015-02-27
- 主分类号： B01D69/12
- IPC分类号： B01D69/12 ; B01D53/22 ; B01D69/00 ; B01D69/10 ; C08J7/04 ; B01D71/70
摘要：
【課題】高圧下におけるガス透過性及びガス分離選択性が高く、耐曲げ性が良好なガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質支持体A4の上に位置するシロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層3を有し、シロキサン結合を有する化合物が式(2)又は式(3)で表される繰り返し単位を有し、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層が多孔質支持体B中に存在する領域GLiと多孔質支持体Bの上に存在する領域GLeとを含み、GLeの厚みが50〜1000nm、GLiの厚みが20nm以上、かつ、GLeの厚みの10〜350%、GLe表層20nm中とGLi表層20nm中の式(3)で表される繰り返し単位の含有率との差が30〜90%であるガス分離膜。 【選択図】図7
公开/授权文献
- JP6276735B2 ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置 公开/授权日：2018-02-07
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