ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置
    4.
    发明专利
    ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置 有权
    气体分离膜,气体分离膜模块和气体分离器

    公开(公告)号:JP2016163869A

    公开(公告)日:2016-09-08

    申请号:JP2015146305

    申请日:2015-07-24

    Abstract: 【課題】高圧下におけるガス透過性及びガス分離選択性が高く、耐曲げ性が良好なガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質支持体A4の上に位置するシロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層3を有し、シロキサン結合を有する化合物が式(2)又は式(3)で表される繰り返し単位を有し、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層が多孔質支持体B中に存在する領域GLiと多孔質支持体Bの上に存在する領域GLeとを含み、GLeの厚みが50〜1000nm、GLiの厚みが20nm以上、かつ、GLeの厚みの10〜350%、GLe表層20nm中とGLi表層20nm中の式(3)で表される繰り返し単位の含有率との差が30〜90%であるガス分離膜。 【選択図】図7

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种气体分离膜,其在高压下具有高的气体渗透性和气体分离选择性,并且具有优异的抗弯曲性。解决方案:气体分离膜具有含有硅氧烷键位于 多孔支撑件A4。 具有硅氧烷键的化合物具有由式(2)和式(3)中的任一个表示的重复单元。 含有具有硅氧烷键的化合物的树脂层含有存在于多孔载体B中的区域GLi和存在于多孔载体B上的区域GLe .Gel的厚度为50〜1000nm,GLi的厚度为20nm 以上,GLe的厚度为10〜350%,由式(3)表示的重复单元的含量与GLe的表面层的20nm以及GLi的表面层的20nm的差异 是30-90%。选择图:图7

    金属配線含有積層体の製造方法、金属配線含有積層体、被めっき層付き基板

    公开(公告)号:JPWO2017170012A1

    公开(公告)日:2018-08-23

    申请号:JP2017011332

    申请日:2017-03-22

    CPC classification number: H05K3/10 H05K3/18

    Abstract: 本発明は、抵抗が低い微細な金属配線を有する金属配線含有積層体を効率よく製造することができる金属配線含有積層体の製造方法、金属配線含有積層体、および、被めっき層付き基板を提供する。本発明の金属配線含有積層体の製造方法は、基板上に、めっき触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有する感光性層を形成する工程と、感光性層をパターン状に露光して、露光された感光性層に対して現像処理を施し、溝部を有する被めっき層を形成する工程と、被めっき層にめっき触媒またはその前駆体を付与する工程と、めっき触媒またはその前駆体が付与された被めっき層に対してめっき処理を行い、溝部を埋めるように、金属配線を形成する工程と、を有する。

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