【課題】OoB耐性が良好で、かつ、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】一般式(bd1)で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物を含有するレジスト組成物。Rx 1 〜Rx 4 、Ry 1 〜Ry 2 、Rz 1 〜Rz 4 は、炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は相互に結合して環構造を形成していてもよく、少なくとも1個はアニオン基を有する。M m+ は、ベンゼン環の数が0〜2である特定の炭化水素基を有するスルホニウム、ヨードニウムカチオン。 【選択図】なし