Invention Patent
JP2020068121A 真空バルブ
审中-公开
- Patent Title: 真空バルブ
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Application No.: JP2018200200Application Date: 2018-10-24
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Publication No.: JP2020068121APublication Date: 2020-04-30
- Inventor: 大坊 昂 , 浅利 直紀 , 丹羽 芳充 , 吉田 剛 , 坂口 亙
- Applicant: 株式会社東芝 , 東芝インフラシステムズ株式会社
- Applicant Address: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- Assignee: 株式会社東芝,東芝インフラシステムズ株式会社
- Current Assignee: 株式会社東芝,東芝インフラシステムズ株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- Agent 木内 光春
- Main IPC: H01H33/664
- IPC: H01H33/664
Abstract:
【課題】金属溶融物がスリットに流れ込むことを抑制し、スリットの短絡防止を図ることができる真空バルブを提供する。 【解決手段】真空容器と、真空容器内に対向して設けられた一対の電極4と、を備える。電極4は、互いの電極4と対向する表面42と、電極4の表面42から裏面44まで貫通し、電極4の外縁43から電極4を切り欠いて延びている複数のスリットSと、少なくともスリットSと同数以上あり、電極4の表面42から窪み、電極4の裏面44に未達である凹部41と、を有する。凹部41は、電流遮断時に発生するアークの進行方向に対してスリットSよりも手前に、各スリットSと離隔し、かつ、近接して配置されている。 【選択図】図3
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