发明专利
- 专利标题: 電力増幅回路、半導体デバイス
- 专利标题(英): POWER AMPLIFICATION CIRCUIT AND SEMICONDUCTOR DEVICE
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申请号: JP2020201727申请日: 2020-12-04
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公开(公告)号: JP2021125874A公开(公告)日: 2021-08-30
- 发明人: 佐藤 秀幸 , 姫田 ▲高▼志
- 申请人: 株式会社村田製作所
- 申请人地址: 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号
- 专利权人: 株式会社村田製作所
- 当前专利权人: 株式会社村田製作所
- 当前专利权人地址: 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号
- 代理商 稲葉 良幸; 大貫 敏史; 江口 昭彦; 内藤 和彦; 佐藤 睦
- 优先权: JP2020018151 2020-02-05
- 主分类号: H03F3/213
- IPC分类号: H03F3/213 ; H01L21/3205 ; H01L21/768 ; H01L23/522 ; H01L21/8222 ; H01L27/06 ; H01L29/417 ; H01L21/331 ; H01L29/737 ; H01L21/822 ; H01L27/04 ; H03F1/30
摘要:
【課題】電力増幅回路におけるトランジスタ間の熱結合を強くする。 【解決手段】電力増幅回路は、半導体基板301上に形成されるトランジスタ101と、制御電流の一部に基づいて、バイアス電流をトランジスタ101に供給するトランジスタ111と、温度上昇に伴い流れる電流が増加するトランジスタ112と、トランジスタ111のエミッタと電気的に接続され、半導体基板301に対向して積層される第2のエミッタ配線202及びバンプ203を有する配線部W1と、を有する。第2のエミッタ配線202及びバンプ203の少なくとも一方は、半導体基板301の平面視において、トランジスタ101が配置される配置領域の少なくとも一部から、トランジスタ112が配置される配置領域に重なるように延伸される。 【選択図】図3
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