- 专利标题： ガスハイドレート含有スラリーを処理するための方法およびシステム
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申请号： JP2020544461申请日： 2019-02-19
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公开(公告)号： JP2021514440A公开(公告)日： 2021-06-10
- 发明人: ピチュマニ,ラグフラマン , ファン・レンスベルヘン,ピーテル・ヒューホ
- 申请人： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
- 申请人地址： オランダ国、ザ・ハーグ・2596・ハー・エル、カレル・フアン・ビユランドトラーン・30
- 专利权人： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
- 当前专利权人： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
- 当前专利权人地址： オランダ国、ザ・ハーグ・2596・ハー・エル、カレル・フアン・ビユランドトラーン・30
- 代理商 特許業務法人川口國際特許事務所
- 优先权： EP18158331.1 2018-02-23
- 国际申请： EP2019054042 JP 2019-02-19
- 国际公布： WO2019162250 JP 2019-08-29
- 主分类号： E21B43/295
- IPC分类号： E21B43/295 ; E21C50/00 ; E21B43/00
摘要：
ガスハイドレートを含有するスラリー(12)を処理するための方法およびシステム(42)が提供され、このシステムは、スラリーを、スラリーと比較してより高いレベルのガスハイドレートを含有する第1の流れ(121)と、スラリーと比較してより低いレベルのガスハイドレートを含有する第2の流れ(123)とに分離するように構成された分離器(422)と、第1の流れおよび第2の流れを別々に処理するように構成された処理アセンブリ(424)とを備え、第1の流れは、第1の流れからガスハイドレートを回収するか、または第1の流れのガスハイドレートからガスを回収するように処理され、第2の流れは、第2の流れのガスハイドレートからガスを回収するように処理される。
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