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发明专利
ガスハイドレート含有スラリーを処理するための方法およびシステム审中-公开

公开(公告)号：JP2021514440A

公开(公告)日：2021-06-10

申请号：JP2020544461

申请日：2019-02-19

申请人： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー

发明人： ピチュマニ,ラグフラマン , ファン・レンスベルヘン,ピーテル・ヒューホ

IPC分类号： E21B43/295 , E21C50/00 , E21B43/00

摘要： ガスハイドレートを含有するスラリー(12)を処理するための方法およびシステム(42)が提供され、このシステムは、スラリーを、スラリーと比較してより高いレベルのガスハイドレートを含有する第1の流れ(121)と、スラリーと比較してより低いレベルのガスハイドレートを含有する第2の流れ(123)とに分離するように構成された分離器(422)と、第1の流れおよび第2の流れを別々に処理するように構成された処理アセンブリ(424)とを備え、第1の流れは、第1の流れからガスハイドレートを回収するか、または第1の流れのガスハイドレートからガスを回収するように処理され、第2の流れは、第2の流れのガスハイドレートからガスを回収するように処理される。