- 专利标题： Fluorine-含複 containing aromatic photoacid generator and a photoresist composition containing the same
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申请号： JP2010543177申请日： 2009-01-13
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公开(公告)号： JP5357182B2公开(公告)日： 2013-12-04
- 发明人: リュウ、セン , ヴァラナシ、プッシュカン、アール
- 申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation
- 专利权人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation
- 当前专利权人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｕｓｉｎｅｓｓ Ｍａｃｈｉｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
- 优先权： US1504708 2008-01-16
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C25/02 ; C07C381/12 ; C07D333/34 ; C07D333/42 ; C09K3/00 ; G03F7/039
摘要：
Fluorine-free photoacid generators and photoresist compositions containing fluorine-free photoacid generators are enabled as alternatives to PFOS/PFAS photoacid generator-containing photoresists. The photoacid generators are characterized by the presence of a fluorine-free heteroaromatic sulfonate anionic component. The photoacid generators preferably contain an onium cationic component, more preferably a sulfonium cationic component. The photoresist compositions preferably contain an acid sensitive imaging polymer. The compositions are especially useful for forming material patterns using 193 nm (ArF) imaging radiation.
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