发明专利
- 专利标题： フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクブランク、フォトマスク、および、パターン転写方法
- 专利标题（英）： A method of manufacturing a photomask blank, photomask blank, photomask, and pattern transfer method
- 专利标题（中）： 一种制造光掩模坯料，光掩模坯料，光掩模的方法，以及图案转印法
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申请号： JP2012112509申请日： 2012-05-16
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公开(公告)号： JP5820766B2公开(公告)日： 2015-11-24
- 发明人: 吉川 博樹 , 深谷 創一 , 稲月 判臣 , 中川 秀夫
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 代理商 大野 聖二; 森田 耕司; 片山 健一
- 主分类号： G03F1/54
- IPC分类号： G03F1/54
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