发明专利
- 专利标题： マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系
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申请号： JP2017516038申请日： 2015-05-22
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公开(公告)号： JP6715241B2公开(公告)日： 2020-07-01
- 发明人: デギュンター マルクス , コルブ トーマス
- 申请人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 申请人地址： ドイツ連邦共和国、73447 オーバーコッヘン、ルドルフ・エーバー・シュトラーセ 2
- 专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 当前专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 当前专利权人地址： ドイツ連邦共和国、73447 オーバーコッヘン、ルドルフ・エーバー・シュトラーセ 2
- 代理商 西島 孝喜; 弟子丸 健; 田中 伸一郎; 大塚 文昭; 須田 洋之; 近藤 直樹; 岸 慶憲
- 优先权： DE102014210927.2 2014-06-06 DE102014215970.9 2014-08-12
- 国际申请： EP2015061364 JP 2015-05-22
- 国际公布： WO2015185374 JP 2015-12-10
- 主分类号： G02B19/00
- IPC分类号： G02B19/00 ; G03F7/20
公开/授权文献
- JP2017518543A マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 公开/授权日：2017-07-06
信息查询
IPC分类:
| G | 物理 |
| G02 | 光学 |
| G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| G02B19/00 | 聚光镜（用于显微镜的入G02B21/08） |
