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    マイクロリソグラフィ照明ユニット
    4.
    发明专利
    マイクロリソグラフィ照明ユニット 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019522819A

    公开(公告)日：2019-08-15

    申请号：JP2018568401

    申请日：2017-05-26

    申请人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

    发明人： デギュンター マルクス ,  ビーリング スティグ

    IPC分类号： G02B5/18 ,  F21S2/00 ,  F21Y115/10 ,  G03F7/20

    摘要： 本発明は、少なくとも1つの光源(121、321、421、521)と光源によって発生された電磁放射線をフォトレジスト内に結合するための導光及び光混合要素(110、310、410、510)とを有するマイクロリソグラフィ処理でのウェーハ上に与えられたフォトレジストの後露光のためのマイクロリソグラフィ照明ユニットに関し、導光及び光混合要素は、第1の値をその最大間隔が有する互いに対向する側面の第1の対を有し、これらの側面上での電磁放射線の複数の反射が起こり、導光及び光混合要素は、第2の値をその最大間隔が有する互いに対向する側面の第2の対を有し、電磁放射線の光伝播方向での導光及び光混合要素の最大広がりは、第3の値を有し、この第3の値は、第1の値よりも大きく、かつ第2の値よりも小さい。 【選択図】図1

    マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム
    7.
    发明专利
    マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム 有权
    用于在微观投影曝光装置中照射掩模的照明系统

    公开(公告)号：JP2016035606A

    公开(公告)日：2016-03-17

    申请号：JP2015247053

    申请日：2015-12-18

    申请人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

    发明人： デギュンター マルクス ,  ライ ミハエル

    IPC分类号： G03F7/20

    摘要： 【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム、特に、マイクロ電気機械システム(MEMS)として実現させることができる反射要素のアレイを含むシステムを提供する。 【解決手段】走査マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システムは、対物面、少なくとも1つの瞳面、及びマスクを配置することができる像平面を備えた対物系を有する。反射又は透過ビーム偏向要素(M ij ;T ij )のビーム偏向アレイが設けられ、各ビーム偏向要素(M ij ;T ij )は、制御信号に応答して可変である偏向角だけ入射光線を偏向するようになっている。本発明によると、ビーム偏向要素(M ij ;T ij )は、対物系の対物面に又はその直近に配置される。 【選択図】図2

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种用于在微光刻投影曝光装置中照明掩模的照明系统，特别是包括可作为微机电系统（MEMS）实现的反射元件阵列的系统。解决方案：照明 用于在微光刻投影曝光装置中照射掩模的系统具有包括物镜平面，至少一个光瞳平面和可设置掩模的图像平面的物镜系统。 设置包括反射或透射光束偏转元件（M; T）的光束偏转阵列，其中每个光束偏转元件（M; T）被配置为响应控制信号以以可变偏转角偏转入射光束。 光束偏转元件（M; T）设置在物镜平面上或最接近物镜系统的物镜平面。选择图：图2