发明专利 JP6873087B2 安定的に放電可能なスパッタリングターゲット 有权 基本信息 请登陆查看更多内容 基本信息 请登陆查看更多内容 安定的に放電可能なスパッタリングターゲット 专利标题： 安定的に放電可能なスパッタリングターゲット 申请号： JP2018163912 申请日： 2018-08-31 公开(公告)号： JP6873087B2 公开(公告)日： 2021-05-19 发明人: 岩淵 靖幸 , 荻野 真一 申请人： JX金属株式会社 申请人地址： 東京都港区虎ノ門二丁目10番4号 专利权人： JX金属株式会社 当前专利权人： JX金属株式会社 当前专利权人地址： 東京都港区虎ノ門二丁目10番4号 代理商 アクシス国際特許業務法人 主分类号： C22C19/07 IPC分类号： C22C19/07 ; G11B5/851 ; C23C14/34 公开/授权文献 JP2020037713A 安定的に放電可能なスパッタリングターゲット 公开/授权日：2020-03-12 信息查询 Espacenet IPC分类: C 化学；冶金 C22 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理 C22C 合金（合金的处理入C21D、C22F） C22C19/00 镍或钴基合金 C22C19/07 .钴基合金
