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公开(公告)号：JP2020202006A
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：JP2020131540
申请日：2020-08-03
申请人： 山陽特殊製鋼株式会社
摘要： 【課題】強靱性に優れたターゲットが得られ、かつ飽和磁束密度が抑制されうる軟磁性層が得られる、Co系合金の提供。 【解決手段】磁気記録媒体の軟磁性層用Co系合金は、 元素XA:15at%以上21at%以下 並びに 元素XB:3at%以上10at%以下 を含有する。残部は、Co、Fe及び不可避的不純物である。元素XAは、Nb、Mo、Ta及びWからなる群から選択される1種又は2種以上である。元素XBは、V、Cr、Mn、Ni及びZnからなる群から選択される1種又は2種以上である。元素XAと元素XBとの合計含有率は、30at%未満である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2020180365A
公开(公告)日：2020-11-05
申请号：JP2019227297
申请日：2019-12-17
申请人： 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司
摘要： 【課題】表面の黒色炭素粒子の沈降を抑制してスパッタリングプロセス中の異常放電の発生確率を低減させ、磁気記録層の微粒子汚染を緩和して、磁気記録層の品質および歩留を向上させることができるスパッタリングターゲットの提供。 【解決手段】鉄(Fe)、白金(Pt)、および炭素(C)を含む、鉄−白金系スパッタリングターゲットであって、炭素は、鉄−白金系スパッタリングターゲットの原子の合計量に基づき、15原子パーセント(at%)以上および45at%以下の量であり、鉄−白金系スパッタリングターゲットの金属組織学的マイクロ構造は、2μm以下の平均サイズおよび3未満の平均アスペクト比を有する炭素相を有する、鉄−白金系スパッタリングターゲット。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020037713A
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：JP2018163912
申请日：2018-08-31
申请人： JX金属株式会社
摘要： 【課題】マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が得られるとともに、スパッタ時のパーティクル発生が少ない、漏洩磁束を向上させた強磁性材スパッタリングターゲットを提供する。 【解決手段】Co又はCo合金で構成された複数の金属粒子(A)、並びに、該複数の金属粒子間の隙間を埋めるCo又はCo合金と金属酸化物とが互いに分散し合っている複合相(B)を備え、複数の金属粒子(A)を構成するCo又はCo合金中のCo濃度と、複合相(B)を構成するCo又はCo合金中のCo濃度との差が5at%以下であり、複数の金属粒子(A)及び複合相(B)の合計面積に対する複数の金属粒子の面積比率が20〜65%である、スパッタリングターゲット。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2020029576A
公开(公告)日：2020-02-27
申请号：JP2018154016
申请日：2018-08-20
申请人： 山陽特殊製鋼株式会社
IPC分类号： C22C38/00 , G11B5/667 , G11B5/738 , G11B5/851 , G11B5/84 , H01F10/16 , H01F41/18 , C22C19/07
摘要： 【課題】強靱性に優れたターゲットが得られ、かつ飽和磁束密度が抑制されうる軟磁性層が得られる、Co系合金の提供。 【解決手段】磁気記録媒体の軟磁性層用Co系合金は、 元素XA:11at%以上25at%以下 並びに 元素XB:0.4at%以上10at%以下 を含有する。残部は、Co、Fe及び不可避的不純物である。元素XAは、Nb、Mo、Ta及びWからなる群から選択される1種又は2種以上である。元素XBは、V、Cr、Mn、Ni、Cu及びZnからなる群から選択される1種又は2種以上である。元素XAと元素XBとの合計含有率は、30at%未満である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2019185840A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018078893
申请日：2018-04-17
申请人： 日立金属株式会社
摘要： 【課題】 ガラス基板との密着性と平坦性に優れ、且つ、ガラス基板に含まれるNaの拡散バリア性に優れるガラス基板用密着膜および、この密着膜を形成するためのターゲットを提供する。 【解決手段】 原子比における組成式がTi 100−X −V X 、30≦X≦75で表され、残部が不可避的不純物からなり、アモルファス構造である磁気記録媒体のガラス基板用密着膜、および、この密着膜を形成するための原子比における組成式がTi 100−X −V X 、30≦X≦75で表され、残部が不可避的不純物からなるターゲット。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JPWO2018083951A1
公开(公告)日：2019-10-17
申请号：JP2017036824
申请日：2017-10-11
申请人： 田中貴金属工業株式会社 , 国立大学法人東北大学
摘要： 良好な磁気特性を維持しつつ、磁性結晶粒の微細化および磁性結晶粒の中心間距離の低減がなされた磁性薄膜を作製可能な磁気記録媒体用スパッタリングターゲットを提供する。 金属Ptおよび酸化物を含有し、残部が金属Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録媒体用スパッタリングターゲットであって、前記磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの金属成分の合計に対して、金属Coを70at%以上90at%以下含有し、金属Ptを10at%以上30at%以下含有し、前記磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの全体に対して前記酸化物を26vol%以上40vol%以下含有し、さらに、前記酸化物は、B 2 O 3 と、融点が1470℃以上2800℃以下の1種以上の高融点酸化物とからなる。
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