发明专利
- 专利标题: 超純水製造供給システム及びその洗浄方法
- 专利标题(英): Ultra-pure water manufacturing supply system and a method for cleaning
- 专利标题(中): 超纯水生产供给系统和方法清洗
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申请号: JP2014535846申请日: 2014-07-22
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公开(公告)号: JPWO2015012248A1公开(公告)日: 2017-03-02
- 发明人: 生憲 横井 , 長雄 福井 , 洋一 田中
- 申请人: 栗田工業株式会社
- 申请人地址: 東京都中野区中野四丁目10番1号
- 专利权人: 栗田工業株式会社
- 当前专利权人: 栗田工業株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都中野区中野四丁目10番1号
- 代理商 重野 剛
- 优先权: JP2013153640 2013-07-24
- 主分类号: A61L2/18
- IPC分类号: A61L2/18 ; A61L2/04 ; A61L2/10 ; B01D65/02 ; B08B3/08 ; B08B3/10 ; B08B9/02 ; C02F1/32 ; C02F1/42 ; C02F1/44 ; C02F9/00
摘要:
殺菌洗浄時においては、水使用ポイントへの供給配管に超純水製造システム内の汚染物質を供給することなく、また、殺菌洗浄後においては、微粒子除去膜で捕捉された汚染物質によるシステム汚染を防止して、短時間で良好な水質の超純水を水使用ポイント(ユースポイント)に供給する。少なくともタンク11、ポンプ12、熱交換器13、紫外線装置14、イオン交換装置15、第1の微粒子除去膜装置16を備えた超純水製造システムにおいて、該第1の微粒子除去膜装置16と並行に第2の微粒子除去膜装置17を設け、殺菌水及びフラッシング水の一部を第1の微粒子除去膜装置16に供給して、膜透過させずに給水側から濃縮水側へ排出し、残部を第2の微粒子除去膜装置17に通水する。
公开/授权文献
- JP5733482B1 超純水製造供給システム及びその洗浄方法 公开/授权日:2015-06-10
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