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发明授权
KR101633035B1 이트리아 기반 전기전도성 내플라즈마 부재 및 그 제조 방법 有权
基于氧化钇的导电等离子体成员及其方法

  • 专利标题： 이트리아 기반 전기전도성 내플라즈마 부재 및 그 제조 방법
  • 专利标题（英）： Yttria Based Conductive Plasma-resistant Member And Methods Thereof
  • 专利标题（中）： 基于氧化钇的导电等离子体成员及其方法
  • 申请号： KR1020140136865
    申请日： 2014-10-10
  • 公开(公告)号： KR101633035B1
    公开(公告)日： 2016-06-24
  • 发明人: 김해두 , 이재욱 , 김하늘 , 김진명 , 박영조 , 고재웅
  • 申请人： 한국기계연구원
  • 申请人地址： 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
  • 专利权人： 한국기계연구원
  • 当前专利权人： 한국기계연구원
  • 当前专利权人地址： 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
  • 代理商 특허법인충정
  • 主分类号： C04B35/505
  • IPC分类号： C04B35/505
이트리아 기반 전기전도성 내플라즈마 부재 및 그 제조 방법
摘要：
이트륨산화물을포함하는전기전도성내플라즈마부재가개시된다. 본발명에서상기내플라즈마부재는이트륨산화물로구성되는기지상과, Ti, Zr 및 Hf으로이루어진그룹중에서선택되는최소한 1종의금속의카바이드또는나이트라이드를포함하는분산상으로구성된다. 본발명에따르면, 본발명에따르면, 반도체급의이트리아복합체를제공할수 있어, 포커스링과같은전기전도성을요하는내플라즈마부재로사용가능하다.
摘要（中）：

本发明公开了一种包含氧化钇的导电等离子体阻抗构件。 本发明的等离子体耐受性构件包括钇化合物，其包含由氧化钇组成的基体相和导电分散相。 根据本发明，本发明提供了一种半导体级氧化钇复合材料，其可用作需要导电性的等离子体阻挡构件，如聚焦环。

摘要（英）：

The plasma electrically conductive member is disclosed comprising a yttrium oxide. In the present invention, a plasma within said member is composed of a dispersed phase comprising a carbide or nitride of at least one metal selected from the group consisting of a matrix and, Ti, Zr and Hf consisting of yttrium oxide. According to the invention, according to the present invention, it is possible to provide an yttria composite of semiconductor grade, it is possible to use the plasma member that requires electrical conductivity, such as a focus ring.

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