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发明授权
KR102367049B1 전처리 조성물 有权

  • 专利标题： 전처리 조성물
  • 专利标题（英）： PRETREATMENT COMPOSITION
  • 申请号： KR1020217017986
    申请日： 2017-08-14
  • 公开(公告)号： KR102367049B1
    公开(公告)日： 2022-02-23
  • 优先权： US62/374,188 2016-08-12; US62/374,199 2016-08-12
  • 国际申请： PCT/US2017/046764 2017-08-14
  • 国际公布： WO2018031996 2018-02-15
  • 主分类号： C23C22/56
  • IPC分类号： C23C22/56 ;  C23C22/66 ;  C23C22/73 ;  C23C22/78 ;  C23C22/83 ;  C23C22/12 ;  C23C22/13 ;  C25D13/20 ;  C25D13/22
전처리 조성물
摘要：
본발명은기재표면의적어도일부를란타나이드공급원및 산화제를포함하는제1 조성물과접촉시키는단계를포함하는기재의처리방법에관한것이다. 본발명은또한상기방법에의해수득가능한기재에관한것이다.
摘要（英）：

The invention relates to the processing method of the materials including the step of contacting to the first composition comprising the lanthanide supply source and oxidizing agent at least a part of the substrate surface. The invention also relates the material enabling to gain with the method.

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