Invention Patent
- Patent Title: 半導體基板及其製法
- Patent Title (English): Semiconductor substrate and method thereof
- Patent Title (中): 半导体基板及其制法
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Application No.: TW101140676Application Date: 2012-11-02
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Publication No.: TW201419468APublication Date: 2014-05-16
- Inventor: 方柏翔 , FANG, BO SHIANG , 林河全 , LIN, HO CHUAN , 賴佳助 , LAI, CHIA CHU , 莊明翰 , CHUANG, MIN HAN , 林麗芳 , LIN, LI FANG
- Applicant: 矽品精密工業股份有限公司 , SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- Applicant Address: 臺中市
- Assignee: 矽品精密工業股份有限公司,SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- Current Assignee: 矽品精密工業股份有限公司,SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- Current Assignee Address: 臺中市
- Agent 陳昭誠
- Main IPC: H01L23/48
- IPC: H01L23/48 ; H01L21/768
Abstract:
一種半導體基板,係包括一具有開孔之基板本體,且該基板本體之表面及該開孔之壁面係為絕緣面;以及形成於該絕緣面上並對應位於該開孔端面上之線路層,且該線路層與該開孔之間係為電性絕緣,藉以利用該開孔之深度增加該線路層與矽材質(即該基板本體)間的絕緣結構厚度,故當該線路層產生高頻訊號時,能防止該線路層之訊號品質劣化。本發明復提供一種半導體基板之製法。
Public/Granted literature
- TWI492343B 半導體基板及其製法 Public/Granted day:2015-07-11
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IPC分类: