Invention Patent
- Patent Title: 半導體裝置及其製造方法
- Patent Title (English): Semiconductor device and manufacturing method of the same
- Patent Title (中): 半导体设备及其制造方法
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Application No.: TW103105920Application Date: 2014-02-21
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Publication No.: TW201444031APublication Date: 2014-11-16
- Inventor: 梶原良一 , KAJIWARA, RYOICHI , 中條卓也 , NAKAJO, TAKUYA , 新井克夫 , ARAI, KATSUO , 谷藤雄一 , YATO, YUICHI , 岡浩偉 , OKA, HIROI , 寶藏寺裕之 , HOZOJI, HIROSHI
- Applicant: 瑞薩電子股份有限公司 , RENESAS ELECTRONICS CORPORATION
- Assignee: 瑞薩電子股份有限公司,RENESAS ELECTRONICS CORPORATION
- Current Assignee: 瑞薩電子股份有限公司,RENESAS ELECTRONICS CORPORATION
- Agent 周良謀; 周良吉
- Priority: 2013-053812 20130315
- Main IPC: H01L23/12
- IPC: H01L23/12 ; H01L23/488
Abstract:
本發明提供一種半導體裝置及其製造方法,提高半導體裝置之可靠度。半導體裝置,具備:晶片焊墊6;SiC晶片1,搭載於晶片焊墊6;第1燒結Ag層16,將晶片焊墊6與SiC晶片1接合;以及補強樹脂部17,覆蓋第1燒結Ag層16的表面,且形成為填角狀。更具有:源極導線9,與SiC晶片1之源極電極2電性連接;閘極導線,與閘極電極3電性連接;汲極導線,與汲極電極4電性連接;以及密封體14,覆蓋SiC晶片1、第1燒結Ag層16及晶片焊墊6的一部分;補強樹脂部17,覆蓋SiC晶片1之側面1c的一部分。
Public/Granted literature
- TWI596713B 半導體裝置 Public/Granted day:2017-08-21
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IPC分类: