发明专利
- 专利标题: 具有空腔之聚合物系半導體結構
- 专利标题(英): Polymer-based semiconductor structure with cavity
- 专利标题(中): 具有空腔之聚合物系半导体结构
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申请号: TW105130495申请日: 2016-09-21
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公开(公告)号: TW201717293A公开(公告)日: 2017-05-16
- 发明人: 余振華 , YU, CHEN-HUA , 郭鴻毅 , KUO, HUNG-YI , 蔡豪益 , TSAI, HAO-YI
- 申请人: 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 申请人地址: 新竹市
- 专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 当前专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 当前专利权人地址: 新竹市
- 代理商 陳長文; 馮博生
- 优先权: 62/250,807 20151104;15/144,262 20160502
- 主分类号: H01L21/56
- IPC分类号: H01L21/56 ; H01L21/82
摘要:
一種結構,其包括一裝置晶粒;以及一囊封材料,囊封該裝置晶粒於其中。該囊封材料具有一頂部表面,與該裝置晶粒的一頂部表面共平面;以及一空腔,在該囊封材料中。該空腔穿透過該囊封材料。
公开/授权文献
- TWI616958B 具有空腔之聚合物系半導體結構 公开/授权日:2018-03-01
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