半導體裝置以及半導體裝置製造方法
    1.
    发明专利
    半導體裝置以及半導體裝置製造方法 审中-公开
    半导体设备以及半导体设备制造方法

    公开(公告)号:TW201828439A

    公开(公告)日:2018-08-01

    申请号:TW106120018

    申请日:2017-06-15

    IPC分类号: H01L23/528

    摘要: 本揭露提供一種半導體裝置。該半導體裝置包括:一底部封裝,其中在導體與貫穿通路之間的一接觸表面積實質上等於該貫穿通路之一橫截面積,且該底部封裝包括:一模塑料;一貫穿通路,其穿透該模塑料;一晶粒,其模製在該模塑料中;及一導體,其在該貫穿通路上。亦揭示一種製造半導體裝置之相關聯方法。

    简体摘要: 本揭露提供一种半导体设备。该半导体设备包括:一底部封装,其中在导体与贯穿通路之间的一接触表面积实质上等于该贯穿通路之一横截面积,且该底部封装包括:一模塑料;一贯穿通路,其穿透该模塑料;一晶粒,其模制在该模塑料中;及一导体,其在该贯穿通路上。亦揭示一种制造半导体设备之相关联方法。

    半導體結構及其製造方法
    2.
    发明专利
    半導體結構及其製造方法 审中-公开
    半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:TW201820577A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:TW106124892

    申请日:2017-07-25

    IPC分类号: H01L23/522

    摘要: 本揭露提供一種半導體結構,該半導體結構包含:一感測元件,其經組態以自一感測目標接收一訊號;一模塑物,其環繞該感測元件;一貫穿通路,其位於該模塑物中;一前側重佈層,其放置於該感測元件之一前側處且電連接至該前側;及一後側重佈層,其放置於該感測元件之一後側處,該前側重佈層及該後側重佈層由該貫穿通路電連接。本揭露亦提供一種用於製造本文中所闡述之該半導體結構之方法。

    简体摘要: 本揭露提供一种半导体结构,该半导体结构包含:一传感组件,其经组态以自一传感目标接收一信号;一模塑物,其环绕该传感组件;一贯穿通路,其位于该模塑物中;一前侧重布层,其放置于该传感组件之一前侧处且电连接至该前侧;及一后侧重布层,其放置于该传感组件之一后侧处,该前侧重布层及该后侧重布层由该贯穿通路电连接。本揭露亦提供一种用于制造本文中所阐述之该半导体结构之方法。