发明专利
- 专利标题: 含有利用傾斜注入工藝製備的超級結結構的半導體器件
- 专利标题(英): Semiconductor device including superjunction structure formed suing angled implant process
- 专利标题(中): 含有利用倾斜注入工艺制备的超级结结构的半导体器件
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申请号: TW104128582申请日: 2015-08-31
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公开(公告)号: TWI588990B公开(公告)日: 2017-06-21
- 发明人: 帕德馬納班 卡西克 , PADMANABHAN, KARTHIK , 博德 馬督兒 , BOBDE, MADHUR , 管靈鵬 , GUAN, LINGPENG , 張磊 , ZHANG, LEI , 耶爾馬茲 哈姆紮 , YILMAZ, HAMZA
- 申请人: 萬國半導體股份有限公司 , ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED
- 专利权人: 萬國半導體股份有限公司,ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED
- 当前专利权人: 萬國半導體股份有限公司,ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED
- 代理商 許郁莉
- 优先权: 14/495,817 20140924
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/08 ; H01L29/10 ; H01L29/78
公开/授权文献
- TW201622136A 含有利用傾斜注入工藝製備的超級結結構的半導體器件 公开/授权日:2016-06-16
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