- 专利标题： Curable composition for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process and method of producing crosslinked polymers therefrom
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申请号： US16653018申请日： 2019-10-15
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公开(公告)号： US10954334B2公开(公告)日： 2021-03-23
- 发明人: Robert Liska , Christian Gorsche , György Harakaly , Markus Kury , Jürgen Stampfl , Peter Dorfinger , Yan Chen , Chunhua Li , Srinivas Kaza
- 申请人： Align Technology, Inc.
- 申请人地址： US CA San Jose
- 专利权人： Align Technology, Inc.
- 当前专利权人： Align Technology, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA San Jose
- 代理机构： Wilson Sonsini Goodrich & Rosati
- 主分类号： C08G18/81
- IPC分类号： C08G18/81 ; C08G18/75 ; A61K6/083 ; A61C7/00 ; C08F236/02 ; B33Y80/00 ; C08G18/73 ; C08G18/32 ; C08G18/34 ; C08G18/10 ; C08J5/00 ; A61C7/08 ; A61C7/10 ; C08G18/44
摘要：
Provided herein are curable compositions for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process, a method of producing crosslinked polymers using said curable compositions, crosslinked polymers thus produced, and orthodontic appliances comprising the crosslinked polymers.
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