发明授权
- 专利标题： Transistor, array substrate and method of manufacturing the same, display device
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申请号： US16318740申请日： 2018-04-02
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公开(公告)号： US11024657B2公开(公告)日： 2021-06-01
- 发明人: Zhengliang Li , Ce Ning , Song Liu , Wenlin Zhang , Xuefei Sun
- 申请人： BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 申请人地址： CN Beijing
- 专利权人： BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 当前专利权人： BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
- 当前专利权人地址： CN Beijing
- 代理机构： The Webb Law Firm
- 优先权： CN201710710353.4 20170818
- 国际申请： PCT/CN2018/081572 WO 20180402
- 国际公布： WO2019/033762 WO 20190221
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12
摘要：
The present disclosure provides a transistor, an array substrate and a method of manufacturing the array substrate, and a display device. The method of manufacturing the array substrate comprises: depositing a plurality of silicon oxide layers on an active layer of a transistor; and depositing a silicon oxynitride layer over the plurality of silicon oxide layers.
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