发明申请
- 专利标题： Positive photosensitive composition
- 专利标题（中）： 正光敏组合物
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申请号： US10150967申请日： 2002-05-21
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公开(公告)号： US20030077540A1公开(公告)日： 2003-04-24
- 发明人: Kunihiko Kodama , Kenichiro Sato , Toru Fujimori
- 申请人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 申请人地址： null
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人地址： null
- 优先权： JPP.2001-152587 20010522; JPP.2001-155897 20010524; JPP.2001-159060 20010528
- 主分类号： G03F007/004
- IPC分类号： G03F007/004
摘要：
A positive photosensitive composition comprising (A) a specific acid generator that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.
公开/授权文献
- US06927009B2 Positive photosensitive composition 公开/授权日：2005-08-09
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