发明申请
- 专利标题： Positive resist composition
- 专利标题（中）： 正抗蚀剂组成
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申请号： US10187291申请日： 2002-07-02
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公开(公告)号： US20030134224A1公开(公告)日： 2003-07-17
- 发明人: Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 申请人地址： null
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人地址： null
- 优先权： JPP.2001-202240 20010703; JPP.2001-202242 20010703; JPP.2001-202243 20010703
- 主分类号： G03F007/004
- IPC分类号： G03F007/004
摘要：
A positive resist composition comprises (A) a resin which comprises a specified repeating units and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation.
公开/授权文献
- US06878502B2 Positive resist composition 公开/授权日：2005-04-12
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