发明申请
- 专利标题： Positive-working resist composition
- 专利标题（中）： 正面抗蚀剂组成
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申请号： US10417209申请日： 2003-04-17
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公开(公告)号： US20030219679A1公开(公告)日： 2003-11-27
- 发明人: Tomoya Sasaki , Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 申请人地址： null
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人地址： null
- 优先权： JPP.2002-117801 20020419
- 主分类号： G03F007/004
- IPC分类号： G03F007/004
摘要：
A positive-working resist composition comprising (A1) a resin containing a repeating unit represented by the specific general formula, wherein the resin increases the solubility in an alkali developing solution by the action of an acid.
公开/授权文献
- US07163776B2 Positive-working resist composition 公开/授权日：2007-01-16
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