发明申请
US20050003299A1 Intermediate layer composition for multilayer resist process, pattern-forming process using the same, and laminate
失效
用于多层抗蚀剂工艺的中间层组合物，使用其的图案形成方法和层压体
- 专利标题： Intermediate layer composition for multilayer resist process, pattern-forming process using the same, and laminate
- 专利标题（中）： 用于多层抗蚀剂工艺的中间层组合物，使用其的图案形成方法和层压体
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申请号： US10883831申请日： 2004-07-06
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公开(公告)号： US20050003299A1公开(公告)日： 2005-01-06
- 发明人: Yutaka Adegawa
- 申请人： Yutaka Adegawa
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 优先权： JPP.2003-271065 20030704
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; C08G77/16 ; C09D183/04 ; C09D183/14 ; G03C1/76 ; G03F7/004 ; G03F7/075 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
An intermediate layer composition having a silicon-containing polymer(A) having a specific structure and a pattern-forming process using the same.
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