发明申请
- 专利标题： Positive photosensitive composition
- 专利标题（中）： 正光敏组合物
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申请号： US10866054申请日： 2004-06-14
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公开(公告)号： US20050130060A1公开(公告)日： 2005-06-16
- 发明人: Kunihiko Kodama , Toshiaki Aoai
- 申请人： Kunihiko Kodama , Toshiaki Aoai
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 优先权： JPP.2000-321128 20001020; JPP.2000-352899 20001120; JPP.2001-132546 20010427
- 主分类号： C07C309/06
- IPC分类号： C07C309/06 ; C07C381/12 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03C1/76
摘要：
A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.
公开/授权文献
- US07435526B2 Positive photosensitive composition 公开/授权日：2008-10-14
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