发明申请
US20050176607A1 Thinner composition and method of removing photoresist using the same
有权
较薄的组成和使用其去除光致抗蚀剂的方法
- 专利标题： Thinner composition and method of removing photoresist using the same
- 专利标题（中）： 较薄的组成和使用其去除光致抗蚀剂的方法
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申请号： US11049751申请日： 2005-02-04
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公开(公告)号： US20050176607A1公开(公告)日： 2005-08-11
- 发明人: Seung-Hyun Ahn , Eun-Mi Bae , Baik-Soon Choi , Sang-Mun Chon , Dae-Joung Kim , Kwang-Sub Yoon , Sang-Kyu Park , Jae-Ho Kim , Shi-Yong Yi , Kyoung-Mi Kim , Yeu-Young Youn
- 申请人： Seung-Hyun Ahn , Eun-Mi Bae , Baik-Soon Choi , Sang-Mun Chon , Dae-Joung Kim , Kwang-Sub Yoon , Sang-Kyu Park , Jae-Ho Kim , Shi-Yong Yi , Kyoung-Mi Kim , Yeu-Young Youn
- 优先权： KR2004-8678 20040210
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; C09D9/00 ; C09D9/04 ; C11D1/00 ; C11D7/26 ; C11D11/00 ; G03F7/38 ; H01L21/027 ; H01L21/304
摘要：
A thinner composition includes propylene glycol ether acetate, methyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, and an ester compound such as ethyl lactate, ethyl 3-ethoxy propionate or a mixture thereof.
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