发明申请
- 专利标题： Photopolymer composition suitable for lithographic printing plates
- 专利标题（中）： 适用于平版印刷版的光聚合物组合物
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申请号： US10536510申请日： 2003-11-28
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公开(公告)号： US20060078819A1公开(公告)日： 2006-04-13
- 发明人: Harald Baumann , Michael Flugel , Udo Dwars , Hans-Horst Glatt
- 申请人： Harald Baumann , Michael Flugel , Udo Dwars , Hans-Horst Glatt
- 申请人地址： US CT Norwalk 06851
- 专利权人： Kodak Polychrome Graphics LLC
- 当前专利权人： Kodak Polychrome Graphics LLC
- 当前专利权人地址： US CT Norwalk 06851
- 优先权： DE10255664.4 20021128
- 国际申请： PCT/EP03/13432 WO 20031128
- 主分类号： G03C1/76
- IPC分类号： G03C1/76
摘要：
Radiation-sensitive elements are described whose radiation-sensitive coating comprises both a photopolymerizable oligomer with a biuret structural unit and a photopolymerizable phosphazene oligomer.
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