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发明申请
US20060124971A1 Semiconductor structure, semiconductor device, and method and apparatus for manufacturing the same 审中-公开
半导体结构，半导体器件及其制造方法和装置

Semiconductor structure, semiconductor device, and method and apparatus for manufacturing the same
摘要：
A semiconductor device includes a non-single-crystal semiconductor film, a support substrate that supports the non-single-crystal semiconductor film, and an active device having a part of the non-single-crystal semiconductor film as a channel region. In particular, the channel region has an oxygen concentration not higher than 1×1018 atoms/cm3 and a carbon concentration not higher than 1×1018 atoms/cm3.
摘要（中）：

半导体器件包括非单晶半导体膜，支撑非单晶半导体膜的支撑衬底和具有部分非单晶半导体膜作为沟道区的有源器件。 特别地，沟道区的氧浓度不高于1×10 18原子/ cm 3，碳浓度不高于1×10 18原子 / cm 3。

信息查询
Global Dossier Espacenet
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/762 ....电荷转移器件
H01L29/765 .....电荷耦合器件
H01L29/768 ......具有由绝缘栅产生的场效层的
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