发明申请
US20060201815A1 Method for production of oxide and silicon layers on a metal surface
审中-公开
在金属表面上生产氧化物和硅层的方法
- 专利标题： Method for production of oxide and silicon layers on a metal surface
- 专利标题（中）： 在金属表面上生产氧化物和硅层的方法
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申请号： US11372372申请日： 2006-03-10
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公开(公告)号： US20060201815A1公开(公告)日： 2006-09-14
- 发明人: Reinhold Separautzki , Andreas Mucha
- 申请人： Reinhold Separautzki , Andreas Mucha
- 申请人地址： DE STUTTGART
- 专利权人： DR. ING. H.C.F. PORSCHE AG
- 当前专利权人： DR. ING. H.C.F. PORSCHE AG
- 当前专利权人地址： DE STUTTGART
- 优先权： DE102005011322.2 20050311
- 主分类号： C25D5/18
- IPC分类号： C25D5/18
摘要：
The invention relates to a method of producing oxide and silicate layers on metal surfaces in a liquid electrolyte, particularly for aluminum metals, magnesium metals and their alloys, as well as for tantalum, titanium, niobium and zirconium. During the production of the oxide and silicate layers in the liquid electrolyte, a bipolar power source is used whose polarity can be changed.
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